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장비

플라즈마화학증착장비

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보유기관명	한국과학기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C507
표준분류명	분석
시설장비 설명	실리콘, GaAs, InP 등을 포함하는 반도체 기판 위에 실리콘 산화물(SiO2) 박막이나 실리콘 질화물(Si3N4) 박막을 증착하는데 사용되는 플라즈마 증착 장비이다. 유전체인 SiO2 박막과 Si3N4 박막을 증착하기 위해서 Sillane, N20, NH3, 등이 사용되고 있으며, 박막 증착 챔버를 가스상으로 청소(clean)하기 위하여 CF4와 O2 혼합가스가 이용되었다. 한편 플라즈마를 형성하기 위해서 13.5 MHz의 RF 발생기가 이용된다. PECVD 장비는 PC 모니터 상에서 장비의 도면을 보면서 각각의 구성부품들을 동작시킬 수 있는 기능을 보유하고 있으므로 사용자들이 편리하게 장비를 활용할 수 있도록 되어 있다.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201311/20131112172620191.jpg
장비위치주소	한국과학기술연구원 연구동(L2)
NFEC 등록번호	NFEC-2014-01-184853
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0050134
첨부파일