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장비

SiC 전력반도체 스테퍼

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보유기관명	한국전기연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C501
표준분류명	분석
시설장비 설명	○ 스테퍼(stepper)는 반도체용 포토마스크의 패턴을 자동으로 인식하고 전사하는 사진공정(photo-lithography) 장비로써 전력반도체 공정뿐만 아니라 일반적인 반도체 공정에 널리 사용되는 필수 장비임. ○ 사업의 목표인 SiC MOSFET소자의 전류밀도 >300A/㎠는 0.5μm 이하의 채널길이 0.1μm 이하의 mis-align 8μm 이하의 cell pitch 구현과 함께 균일하고 재현성있는 패터닝이 필수적으로 스테퍼를 사용하여야만 달성 가능함. - 스테퍼는 웨이퍼 상의 align key를 자동으로 인식하여 노광함으로써 정확한 채널길이 및 마감구조의 구현이 가능하며 반도체 공정에서 수십 회 중첩되는 사진공정을 자동화하여 패터닝 오류를 최소화 할 수 있음. ○ 특히 SiC 전력반도체의 웨이퍼 크기는 현재 대부분 4인치 규격을 사용하고 6인치가 보급되는 중임을 고려할 때 4 6인치를 모두 수용 가능한 스테퍼가 필수적임.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201803/20180305133131441.png
장비위치주소	한국전기연구원 17연구동
NFEC 등록번호	NFEC-2018-03-242633
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812096517
첨부파일