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장비

장비 및 시설 기본정보

산화막 성장 및 폴리실리콘 증착용 LPCVD

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 세미트로닉스
모델명 WAHF-612CC
장비사양
취득일자 2018-09-20
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국전기연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C500
표준분류명 기타
시설장비 설명 1)산화막 증착 - 중요기능: SiC trench MOSFET용 게이트 산화막 형성 - Wafer 크기: 조각 ~ 6인치 Wafer 처리능력: ≥ 10매 - 사용 소스 및 가스: Tetraethyl orthosilicate(TEOS) SiH4 N2O O2 N2 - 장비 내 균일한 온도 유지영역: ≥ 300 mm - PC control 자동 공정압력 조절 기능 포함 2)폴리실리콘 증착 - 중요기능: Phosphorous doped 및 undoped 폴리실리콘 증착 - Wafer 크기: 조각 ~ 6인치 Wafer 처리능력: ≥ 10매 - 사용가스: PH3 SiH4 N2 - 균일한 온도 유지영역: ≥ 300 mm - PC control 자동 공정압력 조절 기능 포함
장비이미지코드 http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201810/20181001165136224.jpg
장비위치주소 17 전력반도체연구동
NFEC 등록번호 NFEC-2018-10-246243
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812095546
첨부파일

추가정보

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과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)