기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허 실용신안

특허/실용신안

플루오로술폰산리튬의 제조 방법, 플루오로술폰산리튬, 비수계 전해액, 및 비수계 전해액 2 차 전지

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 미쯔비시 케미컬 주식회사
출원번호 10-2020-7002296
출원일자 2020-01-22
공개번호 20200206
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 비수용매 중에서 리튬염 및 플루오로술폰산을 반응시키는 공정을 포함하는, 플루오로술폰산리튬을 제조하는 방법으로서, 그 리튬염이 상기 반응 공정에 의해 물을 발생시키지 않는 리튬염인 플루오로술폰산리튬의 제조 방법에 관한 것이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020207002296
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01M-010/0567,C01B-017/46,H01M-010/052,H01M-010/0525,H01M-010/0568,H01M-010/0569,H01M-004/136,H01M-0
주제어 (키워드)