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장비

플라즈마 시험기

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보유기관명	한국화학연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	B500
표준분류명	시험·검사장비
시설장비 설명	Plasma system은 외부에서 공급되는 H2, O2, Ar 등 3가지의 Gas 가 장비 내부에 각각 장착된 Mass Flow Controller 를 통하여 시편의 종류 및 작업 목적에 따른 적정한 사용 비율로 배합 된 후 10 Watt ~ 100 Watt 사이에서 안정적으로 조절 할 수 있는 고유한 Power Supply 로 공급되어 매우 다양하고 활용도가 높은 Plasma 를 만들어 내게 되고, 진공 하에 필요한 Gas 를 선택하여 100 Watt 까지의 높은 수치로 설정 할 수 있는 RF Power Supply 에 걸어주면 투입된 Gas가 Plasma 상태로 활성화 됨. 이러한 Plasma 상태에서 시편의 표면에 존재하는 Hydrocarbon 오염 물질들을 효과적으로 제거하여 주는 방식을 기본 원리로 함
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/CeRgjbgTkqo57IOL0VyD_w600.jpg
장비위치주소	10연구동 316
NFEC 등록번호	NFEC-2011-11-149930
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-krict_chem-00072
첨부파일