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장비

전자회절실험장치

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보유기관명	서울대학교
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	F202
표준분류명
시설장비 설명	특징 고성능 고집적의 메모리 소자를 구현하기 위해서는 고품질의 산화물 초박막을 만들어야 한다. 이를 위해 박막 증착 시 RHEED (고에너지 전자회절) 패턴을 이용 원자 수준에서 박막의 두께를 조절하는 것이 필수적이다. 특히 전자회절 peak의 세기를 실시간으로 모니터링함으로써 제작된 초박막의 두께를 측정하는 것이 가능하다. 더 나아가 2-stage diffential pumping이 가능한 RHEED의 경우에는 높은 산소 압력 하에서도 사용이 가능하므로 보다 많은 종류의 산화물 박막을 합성할 수 있 고 이를 통해 물질의 근원적 물성 규명이나 기존의 bulk에서는 기대할 수 없는 특성을 지 닌 양자 구조나 인공 초격자를 구현하는 연구를 수행하는 것이 가능하다.활용분야 증착된 박막의 표면에 있는 분자층의 결정성이나 표면 거칠기와 같은 정보를 얻을 수 있음.
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110120111723.JPG
장비위치주소	서울 관악구 대학동 서울대학교자연과학대학 22동 107호 기초과학연구원 22동 1층 115호
NFEC 등록번호	NFEC-2008-04-070965
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0008122
첨부파일