기술정보 > 장비 | 기업공감원스톱서비스

장비

에처

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명	서울테크노파크
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C510
표준분류명	시험·검사장비
시설장비 설명	동작원리 : 유도 결합형 플라즈마 식각으로, 코일을 플라즈마가 발생 될 수 있는 가스 주변에 놓아서 이 코일에 고주파 전력을 가하여 발생된 시간에 따라 변화하는 전기장이 챔버 내부에 침투하게 되며, 이 전기장을 이용하여 코일에 가하는 전력이 챔버 내부에 플라즈마를 발생시킨다 이러한 플라즈마를 소스원으로 하는 반응이온 식각공정 장비임. 결합 이온화 원자와 반응 가스를 다양한 반도체, 금속, 산화물, Nitrides 및 기타 재료를 에칭하는 능력의 플라즈마를 만드는 고주파 에너지를 (RF) 이용한 드라이 에칭 장비임.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/XWgl0MgiixDyKj7RAvVL_w600.jpg
장비위치주소	서울테크노파크 OPEN FAB104-2
NFEC 등록번호	NFEC-2011-01-137974
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-seoultp-00047
첨부파일