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장비

이온밀링기

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보유기관명	순천대학교 공동실험실습관
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C102
표준분류명	물리·재료장비
시설장비 설명	아르곤과 같은 불활성 기체의 이온 혹은 원자들을 적절한 크기의 전압으로 가속시켜서 직경 3 mm인 원판 시편 중심에 계속적으로 충돌시킴. 이 충격으로 시편 표면 원자들이 떨어져 나가는 sputtering 현상이 발생하여 주로 시편 중심부가 집중적으로 연마됨. 이온에 가해주는 에너지 값은 아르곤의 경우 3-6 keV 범위를 주로 사용함. 이온빔이 시편 표면에 부딪히는 입사각도도 연마속도, 표면 연마상태, 미세조직 손상깊이 등에 큰 영향을 미침. 보통의 경우 10-20 o 범위가 주로 사용되며 시편을 회전시킴으로써 균일한 연마를 유도함. 본 장비는 이온 건이 시편 표면을 중심으로 위쪽과 아랫쪽 대칭 위치에 한 개씩 설치되어 있어서 양면 동시 연마가 가능함.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/sSjNLnmvakW0cQlM4rZS_w600.jpg
장비위치주소	순천대학교 공동실험실습관 107호
NFEC 등록번호
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-sc_gsk-00003
첨부파일