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장비
장비 및 시설 기본정보
전자빔 증착기기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 대기하이텍 |
| 모델명 | E-beam evaporation system |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-10-18 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 고려대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 본 장비는 1개의 chamber내에 1개의 e-beam source를 장착한 e-beam evaporator이며 2cc의 target pocket 4개가 장착되어 있고 pocket rotation으로 네 종류의 물질을 한 공정에 증착 할 수 있다. e-beam은 sweep이 가능하고 sample이 장착되는 loader는 증착막을 균일하게 하기 위해 회전 가능하다.구성및성능 (1) Input (dissipation power):voltage : 225Vrms+-25Vcurrent : 35Aphase : 1 (2) Output (e-beam power):voltage : 4.5~5.5KV DCcurrent : 0~600mA DCpolarity : negative (3) Emission current:Line regulation +-0.1% of full voltage for 10% line change (4) Voltage:Load regulation 0.1% of full voltage for a no-load to full-load change (5) Ripple:Less than 1% rms for full scale current and voltage into a resistive load for all frequencies (6) Arc suppression:For momentary arcs arc quench circuit is adjustable between 10mS to 100mS via internal potential meter (set at 50mS). Arc integrating option is employed to latch inverter off if more than 12 arcs occur in a 5-second time period.활용분야 나노 물질 소자의 금속 증착 나노 물질 금속 촉매 증착 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/200801/.thumb/20080115151945.jpg |
| 장비위치주소 | 서울 성북구 안암동5가 고려대학교안암캠퍼스(자연계) 126-16 고려대학교 공학관 지하1층 104 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2008-01-055325 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0008362 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |