패턴 임계치수 측정 주사전자현미경
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | Hitachi |
모델명 | S-8C40T |
장비사양 | |
취득일자 | 2020-08-07 |
취득금액 |
보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | A206 |
표준분류명 | 시험 |
시설장비 설명 | 1. 장비설명 (100자 이상 기록 요망) - 본 장비는 6인치 Si wafer scale에 대하여 Photo-리소그래픽 공정 후 PR(photo-resist) 패턴과 etching 후 패턴에 대하여 Critical Dimension (CD)을 측정하는 장비임. - Wafer scale에서의 패턴 CD의 균일도 평가에도 필수적인 장비임. - 장비 (ex. photo litho. & etcher) 성능평가 및 공정안정화 작업 시에도 필요한 장비임. |
장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/202008/20200820163834935.png |
장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기FAB지원센터 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2020-08-264561 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-202008265962 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |