기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

장비

장비 및 시설 기본정보

급속 열처리 시스템

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 에코피아
모델명 High Temp High Vacuum Annealing system Using Elect
장비사양
취득일자 2016-09-21
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국과학기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C601
표준분류명 시험
시설장비 설명 -고속으로 열처리를 하는 장비로 반도체 및 나노 기술에 활용 -12개의 할로겐 램프를 열원으로 사용하며 radiation transfer를 이용해 wafer의 온도를 올려 temperature uniformity를 조절하여 반도체 소자의 물성을 향상시키는 장비
장비이미지코드 https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/202212/20221227102419866.jpg
장비위치주소 자연과학동(E6-2)
NFEC 등록번호 NFEC-2022-12-283876
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL https://www.zeus.go.kr/cloud/resvEq/read/Z-202305267878?cloudId=202305233883
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)