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장비

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보유기관명	연세대학교 비아이티 마이크로 팹 센터
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C523
표준분류명	생산·공정장비,기타장비
시설장비 설명	Vertical chamber type의 batch process용 furnace Recipe Load : Max 20 ea recipe (Max 40 steps per price) Wafer Size : 150 mm wafer (조각 wafer available) Leak Rate : N2 2kg/㎠ 12시간 압력 변동율 0.5 % 이하 Temp. Range : 150 ~ 1,200 ℃ (step 1℃) Gas Flow : Refer to Gas Drawing Using Gas : N2, H2O, O2
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/uZDedwUvtL23SUBtCTDl_w600.jpg
장비위치주소	서울 서대문구 연세로 50 첨단과학기술연구관 B206호
NFEC 등록번호	NFEC-2008-01-055415
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-YS_BIT-00006
첨부파일