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특허 실용신안

특허/실용신안

다단계 분산 중합에 의하여 다분산 고분자 입자를 제조하는 방법

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 주식회사 선진화학
출원번호 10-2000-0034069
출원일자 2000-06-21
공개번호 20080509
공개일자 2003-03-31
등록번호 10-0378520-0000
등록일자 2003-03-19
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 유기 고분자를 제조함에 있어서 원료투입단계, 중합단계, 세척단계 및 건조 단계로 구성되며, 각 단계에 있어서 단량체, 용매, 안정제 및 계면 활성제의 종류와 양을 조절함으로써 입자의 크기를 조절하고 다단계 중합법 또는 단량체 팽윤법, 및 단계중합으로 입자의 크기, 분포도 및 형태를 조절하였으며 세척단계시 표면 특성에 따라 선택적으로 단계세척을 실시하였다. 본 발명에 의한 유기 고분자는 입자 특성 요소(characteristic factor)가 선택적으로 제어됨으로써 화장품 안료, 페인트 안료, 소광제, 산업용 흡수제 및 흡유제등과 같은 다양한 용도로 사용될 수 있고 금속코팅에 의해 전자 소재 재료로 사용할 수 있는 등 산업적 요구사항(industrial requirements)을 만족시킬 수 있었다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020000034069
첨부파일

추가정보

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