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특허 실용신안

선택 퇴적 모델링 물질

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기관명	NDSL
출원인	훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드)게엠베하
출원번호	10-2001-7002183
출원일자	2001-02-20
공개번호	20080509
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 기재, 대기 조건에서 고체인 적어도 하나의 가소제를 적어도 10 중량%를 함유하는 가소제 성분, 및 기재 및 가소화 성분과 상용성이 있는 적어도 하나의 점착 수지를 포함하며, 130℃의 온도에서 약 30mPa s(센티포아즈) 미만의 점도를 가지는 선택 퇴적 모델링 물질에 관한 것이다. 선택 퇴적 모델링 물질은 선택적으로, 분자당 적어도 하나의 글리시딜기를 함유하는 적어도 하나의 화합물, 적어도 하나의 불포화 말단기를 가지는 적어도 하나의 화합물, 분자당 적어도 하나의 비닐 에테르기를 가지는 적어도 하나의 화합물의 혼합물 또는 그 혼합물들인 52∼98 중량%의 반응성 중합물질, 경화제 또는 활성화제, 및 선택적으로 비반응성 중합물질 또는 왁스 물질을 포함하며, 약 10∼70 중량%의 세그먼트 함량을 가지는 패스트 세트를 함유할 수 있다. 본 발명은 또한 상기 모델링 물질을 이용하여 3차원 물품을 생성하기 위한 방법에 관한 것이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020017002183
첨부파일