| 초록 |
성능 파라미터 또는 그로부터 유도된 파라미터를 결정하는 방법으로서, 상기 성능 파라미터는 리소그래피 프로세스를 거치는 기판 상에 하나 이상의 구조체를 형성하기 위한 리소그래피 프로세스의 성능과 연관되는 방법이 개시된다.상기 방법은, 상기 성능 파라미터의 복수 개의 확률 기술(probability description)을 포함하는 확률 기술 분포를 획득하는 단계 - 각각의 확률 기술은 상기 기판 상의 상이한 위치에 대응함 -; 및 복수 개의 성분 확률 기술 분포를 획득하도록, 각각의 확률 기술을 복수 개의 성분 확률 기술로 분해하는 단계를 포함한다.상기 복수 개의 성분 확률 기술 각각에 대한 성분 기판-전역 모델(component across-substrate-area model)이 결정되는데, 상기 성분 기판-전역 모델은 기판 영역에 걸친 개별 성분 확률 기술을 모델링하고; 상기 성분 기판-전역 모델에 기반하여 상기 성능 파라미터 또는 그로부터 유도된 파라미터에 대한 값이 결정된다. |
