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특허 실용신안

특허/실용신안

수생식물의 동화작용에 의한 질소, 인 제거 및 수생식물을탈질반응의 전자공여체로 재이용하는 하폐수고도처리방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 한상배
출원번호 10-1999-0049698
출원일자 1999-11-10
공개번호 20080509
공개일자 2002-08-24
등록번호 10-0350051-0000
등록일자 2002-08-12
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 하수 또는 폐수를 처리함에 있어서, 호기성의 질산화공정과 무산소조건의 탈질공정 및 고액분리공정으로 구성되는 1단계 고도처리시설에 수생식물을 재배하여 질소와 인을 제거하는 수생식물접촉조를 추가하여 하폐수고도처리시설을 구성하고, 1단계 고도처리시설의 유출수를 수생식물접촉조에 유입시켜서 질소와 인등의 영양염류가 수생식물의 동화작용에 의하여 생체로 합성되어 제거되도록 하며, 잉여수생식물에서 추출되는 유기물을 다시 상기 탈질공정에 투입하여 탈질반응에 소요되는 전자공여체로 이용되도록 하므로써, 수생식물이 탈질반응에 소비되고 다시 재생산되는 순환과정이 반복되어, 수생식물만을 이용하여 하폐수를 처리하는 종래의 생태학적 방법만을 사용하는 경우보다 부지소요면적이 적고 잉여수생식물의 처분문제가 해소되며, 유입수중의 유기물을 이용하는 탈질방법 또는 외부에서 유기물을 공급하는 후탈질방법등의 미생물을 이용하는 종래의 공학적 방법만을 사용하는 경우보다 질소와 인을 경제적이며 매우 높은 효율로 제거할수 있는 하폐수고도처리방법에 관한 것이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1019990049698
첨부파일

추가정보

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