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특허 실용신안

특허/실용신안

X선 투영 노광장치, X선 투영 노광방법 및 반도체디바이스

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 가부시키가이샤 니콘
출원번호 10-2002-7009967
출원일자 2002-08-02
공개번호 20080509
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 소망의 미세 패턴을 웨이퍼 상의 회로 패턴에 고정밀도로 중첩하여 노광할 수 있는 X선 투영노광장치를 제공한다. 이 X선 투영노광장치는, X선 원과, X선 원으로부터 발생되는 X선을 소정의 패턴을 갖는 마스크 상에 조사하는 X선 조명광학계와, 이 마스크를 지지하는 마스크 스테이지와, 마스크로부터의 X선을 받아 이 패턴의 이미지를 레지스트를 도포한 웨이퍼 상에 투영하는 X선 투영광학계 (1) 와, 웨이퍼 (4) 를 지지하는 웨이퍼 스테이지 (5) 와, 웨이퍼 (4) 에 형성된 마크 (4a) 의 위치를 검출하는 마크위치 검출기구 (6) 를 구비한다. 또한 X선 투영광학계 (1) 의 노광시야의 중심 (36) 은 이 광학계 (1) 의 중심축 (1a) 으로부터 떨어진 위치에 있다. 또 마크위치 검출기구 (6) 의 중심축 (6a) 은 X선 투영광학계 (1) 의 중심축 (1a) 에 대하여 노광 시야측에 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020027009967
첨부파일

추가정보

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주제어 (키워드)