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특허 실용신안

특허/실용신안

X선 증감지

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 이스트만 케미칼 컴파니
출원번호 10-1990-0001313
출원일자 1990-02-03
공개번호 20080509
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 [목적]X-방사선의 상 패턴을 흡수하고 더 긴 파장 전자기 방사선의 해당 패턴을 방출하기 위해 사용되는 형광판을 제공하기 위함이다.[구성]지르코늄 이온이 광학 그레이드 하프니아에서 발견되는 것보다 높은 농도로 하프니아 인광체 호스트내에 존재하는 스크린을 제공하며, 여기서 인광체 호스트내의 하프늄 및 지르코늄 이온은 식(I)을 만족시킨다. 식에서, Z는 4/10000 내지 0.3이다. 또한, 이 스크린은 인광체가 활성화하는 양의 알카리 금속 이온을 부가적으로 포함하는 것이 바람직하며, 이런 알카리 금속으로는 리튬 이온, 칼륨 이온, 세슘 이온, 루비듐 이온 등이 있다.[효과]광학 그레이드 하프니아에 존재하는 것보다 많은 지르코늄을 포함하는 하프니아 호스트 인광체를 제공하며, 높은 발광 강도의 스크린을 제공한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1019900001313
첨부파일

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