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기술동향

저비용 나노분리막 기술 개발

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기관명	NDSL
작성자	글로벌 과학기술정책 정보서비스
작성일자	2012-09-10 00:00:00.000
내용	분자 크기 입자를 선택적으로 분리할 수 있는 나노 분리막을 저비용 증착방식으로 만드는 원천기술이 KAIST와 ETRI 공동연구팀에 의해 개발됐다. 전자산업에 흔히 쓰이는 물리적 기상증착을 통해 형성된 박막구조가 원기둥이고 1∼5nm 정도 미세한 틈을 가지고 있어 이를 분리막에 활용할 수 있으리라는 데 착안했다. 복잡한 고비용 공정이 필요한 기존 나노 분리막 제조 방식에 비해, 본 연구는 이미 반도체 공정에 널리 쓰이는 저렴한 공정을 사용했다. 제조된 나노분리막은 선택적 투과력이 좋고 박막 두께가 얇아 투과 속도도 기존보다 100배 이상 빠르다. 또한 금속뿐 아니라 산화물에도 적용할 수 있고 1∼10nm 크기도 손쉽게 조절할 수 있다.
출처
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=TREND&cn=ARTI-00000001418
첨부파일